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當前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  氣體發(fā)生器  >  氮氣發(fā)生器  >  丹麥進口Flairmo沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器

沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器

簡要描述:沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器
2010年Flairmo*實驗室空壓機問世,基于在氣體制造及純化技術(shù)上建立起來的強大技術(shù)團隊和專業(yè)知識背景,F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術(shù)的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作,現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設(shè)在丹麥奧爾堡。10多年來, Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造。

  • 產(chǎn)品型號:丹麥進口Flairmo
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-07
  • 訪  問  量:1076

詳細介紹

沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器

2010年Flairmo*實驗室空壓機問世,基于在氣體制造及純化技術(shù)上建立起來的強大技術(shù)團隊和專業(yè)知識背景,F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術(shù)的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作,現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設(shè)在丹麥奧爾堡。10多年來Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造,產(chǎn)品滿足各類實驗室、科學儀器對高純氫氣、高純氮氣、零級空氣、大流量氮氣等氣體的需求,涉及醫(yī)療,實驗室,食品,工業(yè)等各個行業(yè)。



型號:N2G 40 – A200.6

氮氣純度99.5%,流量40L/min,內(nèi)置空壓機,壁掛式/柜式箱體,整套系統(tǒng)占地面積不超過0.4平方米,質(zhì)譜配套氮氣發(fā)生器。適配Agilent安捷倫,Thermo Fisher賽默飛,AB SCIEX,沃特世Waters ,布魯克 Bruker,島津Shimadzu,PerkinElmer珀金埃爾默等品牌液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MS。

提供3年10000小時質(zhì)保服務(wù)。

所用技術(shù) PSA

流速        40 SLPM

出口壓力 0   到 7 barg / 0 到   100 psig

空壓機     內(nèi)置

操作環(huán)境溫度          5°C   到40°C

工作環(huán)境濕度          相對濕度≤   70% , 不冷凝

高海拔     2000 米

尺寸        (長x寬x高 ): 615 x 630 x 860 mm

重量:110 kg


沃特世waters Xevo TQD 氮氣發(fā)生器

丹麥Flairmo*氮氣發(fā)生器專門為LCMS設(shè)計,采用*進的PSA技術(shù),將空氣壓縮機里的氣體導入碳分子篩,氧氣、二氧化碳、水份及其他雜質(zhì)在通過碳分子篩時被除去,只允許氮氣通過碳分子篩并進入蓄氣池,在蓄氣池里進行壓力和流速的調(diào)節(jié)后就可以與用氣設(shè)備相連。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器高配機型內(nèi)置氧濃度分析儀,可以實現(xiàn)純度在線顯示,報警等功能,并且可以用手機APP或者電腦程序?qū)嵤┻h程監(jiān)測,機器的內(nèi)部控制結(jié)合氧濃度分析儀實現(xiàn)純度的真正可選可控,只會產(chǎn)出我們設(shè)定好需要的氮氣。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器配備了LCD 觸摸顯示屏可以方便查看機器狀態(tài)和記錄,如開機次數(shù),運行時間,純度設(shè)置,純度報警,維修服務(wù)提醒等等。


與采用中空纖維膜技術(shù)對比

1、碳分子篩技術(shù)可實現(xiàn)自我凈化,不僅有效去除雜質(zhì)和碳氫化合物,而且得到的氮氣純度更高,這就是為什么所有廠家氣相用氮氣發(fā)生器(因為純度要求達到99.999%)全部采用碳分子篩技術(shù)而不是膜分離技術(shù)。

2、膜分離技術(shù),根據(jù)不同氣體在通過膜時的滲透屬性不同,將空氣中的氮氣分離出來,但通過膜的壓縮空氣即使之前經(jīng)過凈化也會存在一定的雜質(zhì)和碳氫化合物,這些雜質(zhì)會附著在膜上而不會*排除,在空氣濕度大的地方,膜的分離效率會不斷降低,純度和流速會逐漸降低.

3、碳分子篩技術(shù)更適宜于潮濕的空氣環(huán)境和高溫天氣;



耐用、穩(wěn)定而可靠的Xevo TQD

沃特世整套UPLC/MS/MS常規(guī)定量應用解決方案可確保系統(tǒng)達到最高的靈敏度、選擇性和穩(wěn)定性而且操作簡便。

借助的穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到

加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率

降低復雜度,提高易用性并確保分析結(jié)果始終正確

最大限度增加處理量,同時又不會降低數(shù)據(jù)質(zhì)量

既擁有當今最寬泛的電離能力,又著眼于未來的創(chuàng)新檢驗

借助穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到

快速不間斷的分析需要一臺能始終給出準確結(jié)果的既可靠又穩(wěn)定的儀器系統(tǒng)。

加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率

您不會再受到與基質(zhì)效應相關(guān)的復雜因素和不確定性的干擾。得益于RADAR,方法開發(fā)成為一種智能化過程,它將定量數(shù)據(jù)與定性數(shù)據(jù)相結(jié)合以直觀顯示完整樣品,從而在樣品制備和色譜方法開發(fā)過程中實現(xiàn)了數(shù)據(jù)導向性決策。

在RADAR模式下,您既可監(jiān)測樣本中的基質(zhì)干擾物、代謝物、雜質(zhì)和降解產(chǎn)物,同時又可準確對目標化合物定量。

確保結(jié)果始終正確

準備IntelliStart和Quanpedia可快速對系統(tǒng)進行自動設(shè)置和檢查,同時自動生成所有的MRM通道,使得系統(tǒng)性能

分析QCMonitor將主動監(jiān)控實時數(shù)據(jù),當超出用戶的任何設(shè)置限定時采取措施。

解讀TargetLynx可自動進行定量分析和結(jié)果報告,并能自動標注十分清晰的標記以降低出錯幾率。

決定TrendPlot使您可直觀查看多天、多周或多月內(nèi)的結(jié)果;這為分析數(shù)據(jù)趨勢和長期系統(tǒng)性能提供了寶貴信息。


最大限度增加處理量,同時又不會降低數(shù)據(jù)

對UPLC的典型窄峰(峰寬2-3秒)進行準確定量需要較高的采集速度以確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。不論您在同一方法中只分析一種化合物,還是分析數(shù)百種化合物,T-Wave碰撞室均可確保UPLC在色譜分析速度和分離度方面的優(yōu)勢得到充分發(fā)揮。


Xevo系列的通用離子源結(jié)構(gòu)擁有*泛的電離技術(shù)范圍以及剛剛面世的電離技術(shù)創(chuàng)新成果。您在試驗選項方面將擁有無限選擇。當您需要某些選項而又時間緊迫時,可在離子源之間進行快速轉(zhuǎn)換,幾分鐘即可使用。耐用、穩(wěn)定而可靠的Xevo TQD


沃特世整套UPLC/MS/MS常規(guī)定量應用解決方案可確保系統(tǒng)達到最高的靈敏度、選擇性和穩(wěn)定性而且操作簡便。

借助穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到

加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率


降低復雜度,提高易用性并確保分析結(jié)果始終正確


最大限度增加處理量,同時又不會降低數(shù)據(jù)質(zhì)量


既擁有當今最寬泛的電離能力,又著眼于未來的創(chuàng)新檢驗


借助的穩(wěn)定性使儀器系統(tǒng)的正常運行時間達到

快速不間斷的分析需要一臺能始終給出準確結(jié)果的既可靠又穩(wěn)定的儀器系統(tǒng)。


加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率


您不會再受到與基質(zhì)效應相關(guān)的復雜因素和不確定性的干擾。得益于RADAR,方法開發(fā)成為一種智能化過程,它將定量數(shù)據(jù)與定性數(shù)據(jù)相結(jié)合以直觀顯示完整樣品,從而在樣品制備和色譜方法開發(fā)過程中實現(xiàn)了數(shù)據(jù)導向性決策。


在RADAR模式下,您既可監(jiān)測樣本中的基質(zhì)干擾物、代謝物、雜質(zhì)和降解產(chǎn)物,同時又可準確對目標化合物定量。


確保結(jié)果始終正確


準備IntelliStart和Quanpedia可快速對系統(tǒng)進行自動設(shè)置和檢查,同時自動生成所有的MRM通道,使得系統(tǒng)性能


分析QCMonitor將主動監(jiān)控實時數(shù)據(jù),當超出用戶的任何設(shè)置限定時采取措施。


解讀TargetLynx可自動進行定量分析和結(jié)果報告,并能自動標注十分清晰的標記以降低出錯幾率。


決定TrendPlot使您可直觀查看多天、多周或多月內(nèi)的結(jié)果;這為分析數(shù)據(jù)趨勢和長期系統(tǒng)性能提供了寶貴信息。


最大限度增加處理量,同時又不會降低數(shù)據(jù)


對UPLC的典型窄峰(峰寬2-3秒)進行準確定量需要較高的采集速度以確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。不論您在同一方法中只分析一種化合物,還是分析數(shù)百種化合物,T-Wave碰撞室均可確保UPLC在色譜分析速度和分離度方面的優(yōu)勢得到充分發(fā)揮。


Xevo系列的通用離子源結(jié)構(gòu)擁有*泛的電離技術(shù)范圍以及剛剛面世的電離技術(shù)創(chuàng)新成果。您在試驗選項方面將擁有無限選擇。當您需要某些選項而又時間緊迫時,可在離子源之間進行快速轉(zhuǎn)換,幾分鐘即可使用。

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